新仪 MASTER-18 微波消解仪、赶酸器、分析天平(十万分之一)等

硝酸(68%)，氢氟酸（40%）

精确称取半导体薄膜材料50 mg（精确至0.1 mg），缓慢滴加8 mL 硝酸（剧烈反应，释放气体），静置10 min 左右，待无明显反应后，补加2 mL 氢氟酸，组装消解罐，按照如下设置参数进行实验：

实验结束后，待冷却至60℃以下，取出消解罐转移至通风橱中缓慢打开，赶酸稀释后，样品可完全消解至澄清透明状态。

实验选取的半导体薄膜材料样品，取样为50 mg，加入硝酸静置后，补加氢氟酸，最高实验温度210 ℃，保温40 min 左右，样品可完全消解。

1、添加氢氟酸进行实验后，需进行赶酸处理，防止氢氟酸对玻璃器皿造成腐蚀，也可能会对实验结果造成影响。

2、添加硝酸后样品反应剧烈，实验过程中应缓慢加入或者分多次加入硝酸，同时实验人员需做好防护。